新華社武漢11月10日電（記者譚元斌）經過3年科技攻關，我國光學薄膜精密微復制技術取得重大突破，成功打破國外技術壟斷。這是記者10日從湖北省國防科工辦和湖北航天化學技術研究所獲得的消息。
　　據介紹，光學薄膜精密微復制技術是在光學薄膜基材表面精密涂布特定配方樹脂，然后在擁有特定設計納微尺度幾何結構的雕刻輥上成型的技術。其廣泛應用于液晶平板顯示器背光模組增亮膜和擴散膜、道路交通標識微棱鏡反光膜、液晶顯示器保護用防反射膜和防窺膜、裸眼3D顯示功能膜以及家電用仿金屬拉絲高光膜等。這些產品附加值高，市場需求大，關鍵技術一直掌握在國外公司手中。
2014至2016年，湖北航天化學技術研究所承擔湖北省重大科技專項“光學薄膜精密微復制工藝制備關鍵技術開發(fā)及應用”，先后開展了結構設計、刻印樹脂配方研究和涂布工藝研究，近日已通過湖北省科技廳驗收。
　　湖北航天化學技術研究所相關負責人說，他們設計出特殊表面涂層微結構，開發(fā)出特殊刻印涂層樹脂配方，在光學薄膜刻印涂層背面采用防眩、防劃傷或防靜電處理，提高產品收益率20%以上，極大地提高了我國新材料產業(yè)鏈科技水平。
　　據介紹，目前，這項技術已在重要國防項目中得到應用，申報發(fā)明10件。